1.直接用空氣中的氧氣做氧化劑，反應條件溫和（常溫 常壓） 

2.可以將有機污染物分解為二氧化碳和水等無機小分子，凈化效果徹底。 

3.半導體光催化劑化學性質穩定，氧化還原性強，成本低，不存在吸附飽和現象，使用壽命長。光催化凈化技術具有室溫深度氧，二次污染小，運行成本低和可望利用太陽光為反應光源等優點，所以光催化特別合適室內揮發有機物的凈化，在深度凈化方面顯示出了巨大的應用潛力。 

常見的光催化劑多為金屬氧化物和硫化物，其中二氧化鈦的綜合性能好，應用廣。